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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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講述低溫CRF等離子表面處理設(shè)備如何提高材質(zhì)的絕緣性能能

講述低溫CRF等離子表面處理設(shè)備如何提高材質(zhì)的絕緣性能能:
       隨著材料科學(xué)的發(fā)展,越來越多的專家對(duì)絕緣層材料的表面改性或納米改性進(jìn)行了研究。CRF等離子表面處理裝置可增強(qiáng)絕緣層材料的電荷量耗散率,并增強(qiáng)其耐電壓。有學(xué)者將絕緣層材料置于F2與其它惰性氣體混合的環(huán)境中,對(duì)絕緣層材料進(jìn)行直接氟化,在絕緣層材料表面形成氟化屏蔽層,不但抑制電荷量的注入,并且增強(qiáng)了電荷量的消散率,改善了材質(zhì)的絕緣性能能。中國(guó)科學(xué)院電工所邵濤使用低溫等離子法,利用介質(zhì)阻擋放電(DBD),對(duì)絕緣層材料表面進(jìn)行射流放電處理。

      研究發(fā)現(xiàn):CRF等離子表面處理設(shè)備改性后,絕緣層材料表面導(dǎo)電率增強(qiáng)(增大),電荷量消散速度加快。與此同時(shí),絕緣層材料表面引入改性后,由于改性設(shè)備等因素的限制,有可能對(duì)試樣表面造成損傷。然而,傳統(tǒng)式的氣體氟化方法需要多天的時(shí)間來處理。這些材質(zhì)主要局限于CRF等離子表面處理設(shè)備絕緣試樣的改性研究。在實(shí)際GIL中,絕緣子的形狀特征與絕緣樣品有很大不同,大規(guī)模的工業(yè)使用仍需進(jìn)一步研究。
       CRF等離子表面處理設(shè)備對(duì)絕緣層材料配方系統(tǒng)的改性可以從源頭上增強(qiáng)絕緣子的性能。為此,許多專家開始研究如何在絕緣層材料中加入無(wú)機(jī)填充料,從而全面提高材質(zhì)的電荷量消散率,從而全面改善聚合物的絕緣性能能。AlN作為一種新型無(wú)機(jī)填充料,具有傳熱性高、熱膨脹系數(shù)低等優(yōu)點(diǎn),備受國(guó)內(nèi)國(guó)外專家的普遍的關(guān)注。研究表明,加上微米AlN后的環(huán)氧樹脂膠不僅增強(qiáng)了傳熱性,并且增強(qiáng)了機(jī)械性能。但與傳統(tǒng)式的Al2O3等填充料對(duì)比,加上AlN后環(huán)氧樹脂膠的絕緣性能能有所下降,限制了AlN在環(huán)氧樹脂膠配方填充料中的使用。

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