誠峰等離子體設備已應用于各種電子元件的制造：
       在二十世際初，伴隨著高新科技制造業(yè)的快速進步，誠峰等離子體設備的應用日益廣泛，已經(jīng)進入了許多高科技領域，占據(jù)著核心技術的位置，等離子體設備清洗技術對產(chǎn)業(yè)發(fā)展和現(xiàn)代文明的影響力較大 ，首推電子資訊工業(yè)，特別是半導體與光電工業(yè)。

       等離子體設備已經(jīng)被應用到各種電子元件的制造中，我們可以肯定，沒有等離子設備及其清洗技術，就不會有今天如此發(fā)達的電子、信息、通信制造業(yè)。另外，電漿設備及其清洗技術也廣泛應用于光學工業(yè)、機械和航天工業(yè)、高分子工業(yè)，并且是光學元件鍍膜、耐磨損層、復合材料中間層、隱含鏡片表面處理等都需要等離子技術來開發(fā)，這些都需要等離子技術的發(fā)展來完成。這個領域是一個新興的領域，它把等離子物理、等離子化學、氣固界面的化學反應結合起來，這是一種需要跨越多個領域，包括化工、材料、電機等，這一領域?qū)⒕哂刑魬?zhàn)性和機遇，而且隨著半導體和光電材料的迅速增長，這一方面的應用需求會越來越大。
        等離子體設備形成的絕緣膜的俘獲特性的絕緣膜的半導體基板。在具有這種構造的半導體基板上，防止在后工序中的不必要的再氧化，另外對于被注入的雜質(zhì)具有阻擋。所以，可以得到不容易受半導體制造工序的條件的影響力的、具有穩(wěn)定的絕緣膜的半導體基板。在對半導體基板進行等離子體處理的等離子體設備，具有半導體基板的處理容器、處理容器導入微波的微波導入部、處理容器供給處理氣體的氣體供給部，處理容器同時供給氧和氮，半導體基板的表面同時進行氧化處理和氮化處理，形成絕緣膜。