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CRF plasma 等離子清洗機

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選擇真空等離子清洗機設備之前應該了解如何去選型

       本文由小編從應用的視角淺析了真空等離子清洗機的選型,通常從物品長寬、抗熱性、清洗的目的是物理反應、化學反應、知名品牌售后服務要素來闡述。真空等離子清洗機技術最大的特點是能夠處理各種高分子材料,如非處理對象,可處理金屬、半導體、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氣乙烷、環氧甚至聚四氟乙烯等多種高分子材料。

真空等離子清洗機

       真空等離子清洗機采用數控技術,自動化程度高,調節設備高度精確,氣流量、清洗強度和時間控制精度高,電漿清洗系統在正確操作下,不會在表面產生損傷層,保證物品質量,清洗是在真空環境下進行的。電漿清洗系統有許多知名品牌和型號,真空等離子清洗機選型是一種適合自己使用的電漿清洗系統尤其重要,下面就真空等離子清洗機的選型做一個簡單的說明。真空等離子清洗機是將物品放入清洗腔內進行清洗,常規電漿清洗腔尺寸為1L-10L,電漿清洗腔尺寸的參考因素是電漿清洗物品的尺寸,一般建議真空等離子清洗機腔空間要留出更多的冗余,比如電漿清洗的電漿已經可以放入清洗,一是為了以后有更大的電漿清洗,二是真空等離子清洗機效果更好。
       物品抗熱性:真空等離子清洗機在儀器運行時,腔內溫度隨清洗時間的增加而逐漸升高。例如,VP-.S系列不銹鋼腔等離子清洗系統運行180秒,清洗室溫度為60/四十℃(標準射頻功率為四十KHz:60℃,射頻功率為13.56兆赫茲:四十℃),/VP-Q系列應時腔等離子清洗系統運行180秒,清洗室溫度為四十℃,物品不耐熱時,應選型13.56兆赫茲的射頻功率或CRF系列。
       真空等離子清洗機的清洗目的是物理反應還是化學反應,物體的清洗目的是考慮物理作用還是化學作用,這與選擇等離子體的射頻激發工作頻率有較大聯系,較常用的等離子體清洗系統有四十kHz、13.56兆赫茲和20兆赫茲3種四十kHz的自閾值電壓約為1000V,13.56兆赫茲的自閾值電壓為250V左右,20兆赫茲的自閾值電壓較低,這3種激發工作頻率的體系不太一樣,四十kHz的自閾值電壓大約是物理反應,1356兆赫茲的自閾值電壓大約是物理反應,20兆赫茲的自閾值電壓約是化學反應,而半導體等材料大多采用物理反應,約1356兆赫茲。
       真空等離子清洗機選型可靠的知名品牌:進口等離子清洗設備發展較早,設備成熟,但供應時間長,售后維護服務不及時,產品升級緩慢,價格較高。國內等離子清洗還處于發展階段,各廠家產品的質量參差不齊。有些廠家缺乏基礎研究和應用知識,品牌意識不強,不重視售后服務,一錘定音。精密儀器等離子清洗系統得到我國3項專利權,產品的質量平穩。建議用戶結合預算和實驗需求選型合適的知名品牌和型號,確保等離子清洗系統長期正常使用,達到最佳使用效果。

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