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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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大氣等離子清洗機(jī)-在微電子IC封裝有著很好的發(fā)展前景

        大氣等離子清洗機(jī)在微電子IC封裝行業(yè)有很大應(yīng)用發(fā)展的前景。其成功應(yīng)用依賴于優(yōu)化工藝參數(shù),如工藝壓力、大氣等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體激發(fā)頻率和功率、時(shí)間、儀器氣體類(lèi)型、反應(yīng)室和電極配置、工件清潔放置位置等。

大氣等離子清洗機(jī)

       制造半導(dǎo)體后期,因指紋、焊劑、焊錫、刮痕、污漬、灰塵、樹(shù)脂殘留、自然氧化、有(機(jī))物等而產(chǎn)生。設(shè)備與材料表面會(huì)形成各種污漬,顯著影響包裝生產(chǎn)及產(chǎn)品質(zhì)量。采用大氣等離子清洗機(jī),可以很容易地去除生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的這些分子級(jí)污染,從而顯著提高IC封裝的可制性、可靠性和成品率。
       在晶片集成電路封裝生產(chǎn)中,等離子清洗工藝的選擇取決于后續(xù)工藝對(duì)材料表面的要求、原始性質(zhì)、化學(xué)成分和性質(zhì)。在芯片和微機(jī)電系統(tǒng)IC封裝中,在基片、基座和芯片之間有大量的引線連接。導(dǎo)線鍵合仍然是實(shí)現(xiàn)芯片焊盤(pán)與外部引線連接的重要手段。如何提高引線鍵合強(qiáng)度一直是行業(yè)研究的難題。
       高頻大氣等離子清洗機(jī)是一種高(效)、低成本的清洗方法,可以有效地去除氟化物、氫氧化鎳、有(機(jī))溶劑殘留物、溢環(huán)氧樹(shù)脂、材料氧化層等。電弧清洗和粘接后,粘接強(qiáng)度和粘合張力的均勻性顯著顯提高,對(duì)提高粘接強(qiáng)度有較大的作用。引線連接前,可采用氣體等離子體技術(shù)清洗芯片接頭,提高了連接強(qiáng)度和成品率。據(jù)資料顯示,在對(duì)等離子清洗效率進(jìn)行研究時(shí),不同公司生產(chǎn)的不同產(chǎn)品采用等離子清洗,使鍵合線抗拉強(qiáng)度增大幅度不同,但有利于提高裝置的可靠性。
       在芯片封裝中,大氣等離子清洗機(jī)中的等離子體在鍵合前對(duì)晶片和載體進(jìn)行清洗以提高其表面活性,能有效地防止或減小空隙,提高粘附性能。另外,增大填充物的邊緣高度,提高IC封裝的機(jī)械強(qiáng)度,減小界面間因熱膨脹系數(shù)不同而形成的剪切應(yīng)力,從而提高制品的可靠性和年限。


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