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CRF plasma 等離子清洗機

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常壓等離子表面處理機

CRF-APO-1100P

配置專業(yè)運動控制平臺,PLC+觸摸屏控制方式,采用精準運動模組,操作簡便;

可選配噴頭數(shù)量,滿足客戶多元化需求;

配置專業(yè)集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設備的整潔、干凈;

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設備詳細數(shù)據(jù)
       AP等離子設備主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

       等離子處理系統(tǒng)技術促進了半導體材料和光學工業(yè)生產(chǎn)的快速發(fā)展趨勢,并被普遍使用于精密的機器設備、汽車工業(yè)、新能源技術、航天航空、污染治理等眾多高新科技行業(yè)。等離子處理系統(tǒng)等離子清洗工藝的關鍵是低溫等離子體的運用,低溫等離子體關鍵借助高溫、高頻率、高能等外部條件造成,是一種氣體狀物質(zhì),具備中性化、高能、電離氣體。低溫等離子體的動能約為幾十電子伏特,在其中帶有離子、電子、自由基和其它特異活性顆粒,及其紫外線等物質(zhì),這種顆粒便于與污染物質(zhì)分子結構反應在材料外表上,使之分離出來,因而可被清理。因為低溫等離子體比高能射線的能量低得多,因此這個辦法只涉及到原材料的表層,不容易影響到材料的板材特性。

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