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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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CRF誠峰plasma清洗機(jī)工藝與傳統(tǒng)的清洗形式有哪些區(qū)別呢?

CRF誠峰plasma清洗機(jī)工藝與傳統(tǒng)的清洗形式有哪些區(qū)別呢?
誠峰plasma清洗機(jī)的關(guān)鍵功能模塊是運用離子注入做到常規(guī)清洗方式 沒法做到的效果,plasma等離子清洗機(jī)的特點有如下
1、plasma清洗機(jī)可以清除有機(jī)層(含碳污染物),會被氧氣和氣體浸蝕,根據(jù)過壓吹掃表層清除,污漬根據(jù)離子注入中的高能粒子轉(zhuǎn)化為穩(wěn)定的小分子并清除。由于離子注入的清除速度只能做到每次幾nm,因此污漬的厚度只能做到幾百納米;
2、可以起到還原氧化物的作用,金屬氧化物與工藝氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。氫與氬或氮的混合物用作工藝氣體。離子注入射流的熱效應(yīng)可能導(dǎo)致進(jìn)一步氧化;。因此,建議在惰性氣體環(huán)境中展開處理;
3、誠峰plasma清洗機(jī)多方面適合在粘結(jié)前展開離子注入活化處理,故而改善新產(chǎn)品粘力;
4、可以在粘結(jié)、植絨、印刷之前處理;
5、金屬和陶瓷表層局部根據(jù)離子注入在粘接前處理,可以起到激活材料表層的作用;
6、plasma清洗機(jī)可以搭配自動化生產(chǎn)設(shè)備,不需要工人24小時站在機(jī)器旁邊。
在科技高速發(fā)展的時代,等離子清洗工藝的出現(xiàn),大大提高了企業(yè)的生產(chǎn)效率。當(dāng)plasma清洗機(jī)艙體內(nèi)接近真空狀態(tài)時,開啟射頻電源,這時氣體分子電離,產(chǎn)生離子注入,并且伴隨輝光放電現(xiàn)象,離子注入在電場下加速,故而在電場作用下高速運動,對物體表層發(fā)生物理碰撞,等離子的能量足以清除各種污染物,同時氧離子可以將有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外,plasma清洗機(jī)是一種提高工作效率的同時也響應(yīng)了環(huán)保的號召。深圳市誠峰智造有限公司是一家自主研發(fā)和生產(chǎn)離子注入清洗的廠家,又稱離子注入表層處理機(jī),是一家全新的現(xiàn)代高科技企業(yè)。本章關(guān)鍵講解離子注入清洗機(jī)的功能模塊。假如您對plasma清洗機(jī)有疑問,相信本章能為您解答。

plasma清洗機(jī)



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